细粉加工设备(20-400目)

我公司自主研发的MTW欧版磨、LM立式磨等细粉加工设备，拥有多项国家专利，能够将石灰石、方解石、碳酸钙、重晶石、石膏、膨润土等物料研磨至20-400目，是您在电厂脱硫、煤粉制备、重钙加工等工业制粉领域的得力助手。

MTW系列欧版磨粉机

稀油润滑系统，新型吊挂式笼式选粉机结构设计

LM立式辊磨机

采用新型碾磨装置自动化电控系统

5X系列欧版智能磨粉机

大型规模化环保智能磨粉机优选设备

LM矿渣立式磨

LM矿渣立式磨集破碎、干燥、粉磨、分级输送于一体

立式磨煤机

烘干与制粉二合一可边磨边烘干

雷蒙磨粉机

工业磨粉设备先驱，经济实用

更多了解

超细粉加工设备(400-3250目)

LUM超细立磨、MW环辊微粉磨吸收现代工业磨粉技术，专注于400-3250目范围内超细粉磨加工，细度可调可控，突破超细粉加工产能瓶颈，是超细粉加工领域粉磨装备的良好选择。

LUM超细立磨

LUM超细立磨结合现代磨粉理念

MW环辊微粉磨

采用新型碾磨装置自动化电控系统

粗粉加工设备(0-3MM)

兼具磨粉机和破碎机性能优势，产量高、破碎比大、成品率高，在粗粉加工方面成绩斐然。

LM砂粉立磨

大型效率与节能双高型砂粉制备产品

氮化硅耐磨层

2020-04-19T09:04:11+00:00

氮化硅材料的性能特点及其应用简介知乎

网页2023年3月9日氮化硅陶瓷具有金属材料和高分子材料所不具备的众多优点 1 耐热，在常压下，Si3N4没有熔点，于1870℃左右直接分解，可耐氧化到1400℃，实际使用达1200℃ 网页2022年3月16日氮化硅硬度大，仅次愈SiC；耐磨性好且自润滑性好，μ＝01，与加油的金属表面相似，极优的耐磨材料 7，化学稳定性好，抗氧化性好，表面易生成致密的SiO2 耐磨自润滑氮化硅知乎

PECVD氮化硅薄膜性质及工艺研究

网页2019年7月31日氮化硅时发现，氢和氮在低频下，主要以 N—H2的形式结合，在高频下以N—H键结合。姜利军等[12]利用高、低频交替沉积氮化硅薄膜将低频下产生的压应力和网页2022年5月14日氮化硅,陶瓷,硬度,耐磨性, 材料网易首页应用网易新闻网易公开课网易高考智愿网易红彩其中3个Si原子和4个N原子在一个平面上，另外3个Si原子和4个N原氮化硅陶瓷拉伸模具特性之高耐磨性能高洛氏硬度材料

氮化硅镀膜工艺参数优化知乎

网页2018年12月18日氮化硅镀膜工艺参数优化摘要:利用等离子体增强化学气相沉积 ( PECVD )法沉积给定折射率的氮化硅薄膜 ,通过正交实验法对衬底温度、NH3流量和射频功率3个网页2022年5月20日氮化硅陶瓷物理特性氮化硅原子结构表明，对于氮原子，外层有5个电子，与si原予键和时，有一个轨道自己耦合，这样只要有3个si原子各提供1个电子与N的轨耐高温高耐磨性能氮化硅陶瓷方管的介绍及用途知乎

高强度高力学性能氮化硅陶瓷中轴的介绍及用途知乎

网页2022年6月6日氮化硅陶瓷物理特性 Si3N4有两种晶型，即α—Si3N4(颗粒状晶体)和β一Si3N4(长柱状或针状晶体)，,而α相是由两层不同且有变形的非六方环层重叠而成α相结构网页2021年1月25日硬质涂层：零件耐磨耐腐蚀耐高温的“金钟罩” 随着现代科学技术的飞速发展，为了提高各类材料及零部件的表面性能，硬质涂层应运而生。硬质涂层是指具有一定硬质涂层：零件耐磨耐腐蚀耐高温的“金钟罩”氮化物

良好的机械强度高耐磨性能氮化硅陶瓷轴承套的介绍及用途

网页2022年10月2日氮化硅的应用氮化硅陶瓷（Si3N4）是一种重要的结构材料，它是一种超硬物质，本身具有润滑性，并且耐磨损；除氢氟酸外,它不与其他无机酸反应，抗腐蚀能力网页2023年4月19日在半导体工业中，氮化硅层用作介电材料、钝化层或硬掩模。此外，在微观力学中也有一些应用。应用举例 1、作为KOH刻蚀的硬掩膜，2、在场氧化过程中定义活性区；3、用于膜、悬臂梁和其他与MEMS器件相关的机械结构；氮化硅片(Silicon Nitride Wafer) – 先进电子材料与器件校级平台

氮化硅光固化增材制造工艺与性能的研究 usst

网页2018年6月3日高性能氮化硅陶瓷具有耐高温、高强度、高绝缘、耐磨损与耐腐蚀等优良性能 [15]。其中，β−氮化硅陶瓷理论热导率达200～320 W/(mK)；氮化硅陶瓷同时还具有高抗热震性、高抗氧化性、无毒等特点 [68]。正是因为氮化硅陶瓷具有极好的耐酸碱腐蚀性，所以该材料被广泛地用作金属与同材质配套使用网页2019年7月31日氮化硅时发现，氢和氮在低频下，主要以 N—H2的形式结合，在高频下以N—H键结合。姜利军等[12]利用高、低频交替沉积氮化硅薄膜将低频下产生的压应力和高频下产生的张应力相互抵消，制备了压应力为109Pa的氮化硅薄膜。PECVD氮化硅薄膜性质及工艺研究

氮化硅的性质及其在耐火材料中的应用

网页2020年5月19日氮化硅陶瓷由于具有高温强度大，耐磨性和耐蚀性好等优异的高温性能，被称为很有发展前景的高温结构材料。强共价键及高温下的低扩散系数，导致Si3N4陶瓷的制造必须借助于高温高压及烧结剂，成本太高，否则很难生产出高质量的氮化硅材料。网页2021年1月25日超硬涂层材料通常由Ⅲ、Ⅳ和Ⅴ主族元素构成的单质或共价键化合物组成，目前能够满足这个标准的材料有金刚石、类金刚石（DLC）、立方氮化硼（cBN）、碳化氮（C3N4）等。利用PVD或CVD法将这些材料沉积到基体表面即可获得超硬涂层，这种涂层不但具有与材料保护零件的最佳盔甲：硬质涂层之“超硬涂层”篇中国科学院

氮化硅陶瓷拉伸模具特性之高耐磨性能高洛氏硬度材料

网页2022年5月14日氮化硅,陶瓷,硬度,耐磨性, 材料网易首页应用网易新闻网易公开课网易高考智愿网易红彩其中3个Si原子和4个N原子在一个平面上，另外3个Si原子和4个N原子在高一层平面上第3层与第1层相对应，相对βSi3N4而言,αSi3N4晶胞参数变化不的网页2022年6月6日氮化硅陶瓷物理特性 Si3N4有两种晶型，即α—Si3N4(颗粒状晶体)和β一Si3N4(长柱状或针状晶体)，,而α相是由两层不同且有变形的非六方环层重叠而成α相结构对称性低，内部应变比β相大，故自由能比β相高，α相在较高温度下(1400℃～1600℃)可转变为β相因此有人将α—Si3N4称为低温型，是不稳定的，β 高强度高力学性能氮化硅陶瓷中轴的介绍及用途知乎

PECVD 法氮化硅薄膜的研究

网页2007年6月14日 PECVD 法氮化硅薄膜的研究吴大维范湘军郭怀喜张志宏李世宁武汉大学武汉抛光硅片经乙醇和丙酮超声清洗除去油污后, 用1∶1 稀释的氢氟酸浸泡二分钟。除去硅表面氧化层。再依次用1# 溶液(NH 4OH ∶H2O 2∶H2O = 1∶1∶8) 和2 # 溶液(HCl∶ 网页2017年7月22日化硅沉积，尝试28oA氮化硅后紫外线而NH，基团需要l 0 kcal／mol的激活能处理，循环4次，最终，氮化硅层能够才可挥发，相比而言，TMS沉积的氮化结束语实现良好的填充能力。然而，在沉积／紫硅薄膜有更少的氢，而更高的压应力。高应力氮化硅：应用与展望pdf

耐高温氮化硅陶瓷轴承套工作方法材料

网页2023年2月5日氮化硅作为一种高强耐高温陶瓷材料，氮化硅陶瓷在机械工业中起着最佳的综合力学性能，它的耐热、抗氧化、耐磨损、耐腐蚀，是化工行业用陶瓷的首选材料；作为轴承滚珠、滚柱、球座、工模、新型陶瓷刀具、泵柱塞、心轴密封材料等化工行业的首选。在网页2021年7月4日 3耐磨自润滑纳米颗粒薄膜，用于、高级汽车等表面保护，耐磨涂料、电泳漆添加剂，起到高耐磨特性。氮化硅硬度高，滑动摩擦系数小的特点可以应用于金属表面陶瓷耐磨复合镀，应用到涂料中可以起到耐磨与耐溶剂特性，高纯度氮化硅可以用在石英坩埚脱氮化硅陶瓷具有什么性能特点？知乎

氮化硅光固化增材制造工艺与性能的研究 usst

网页2018年6月3日高性能氮化硅陶瓷具有耐高温、高强度、高绝缘、耐磨损与耐腐蚀等优良性能 [15]。其中，β−氮化硅陶瓷理论热导率达200～320 W/(mK)；氮化硅陶瓷同时还具有高抗热震性、高抗氧化性、无毒等特点 [68]。正是因为氮化硅陶瓷具有极好的耐酸碱腐蚀性，所以该材料被广泛地用作金属与同材质配套使用网页2020年5月19日氮化硅陶瓷由于具有高温强度大，耐磨性和耐蚀性好等优异的高温性能，被称为很有发展前景的高温结构材料。强共价键及高温下的低扩散系数，导致Si3N4陶瓷的制造必须借助于高温高压及烧结剂，成本太高，否则很难生产出高质量的氮化硅材料。氮化硅的性质及其在耐火材料中的应用

《氮化硅薄膜性质》ppt课件豆丁网

网页2021年1月10日电池片工艺部氮化硅薄膜特性以及影响膜品质因素进行分析培训人：闫素敏整理ppt培训内容：整理ppt氮化硅薄膜是一种物理、化学性能十分优良的介质膜,具有高的致密性、高的介电常数、良好的绝缘性能和优异的抗Na+能力等,因此广泛应用于集成电路的最后保护膜、耐磨抗蚀涂层、表面钝化、层间网页2018年8月10日 228原因八：PECVD镀膜温度影响电池片耐磨性针对C车间氮化硅划伤比例较高，PE镀膜温度整体也较高的特点，对PE不同温度下的划伤现象进行了验证，以C车间某线为例，对比不同镀膜温度的划伤比例，数据如图9所示。电池片氮化硅膜划伤原因与改善比例

常压烧结高韧性氮化硅陶瓷喷片的介绍及用途知乎

网页2022年7月6日常压烧结高韧性氮化硅陶瓷喷片的介绍及用途杭州海合精密氮化硅生产加工厂家已认证帐号氮化硅的主要应用由于氮化硅陶瓷的优异性能，它已在许多工业领域获得广泛应用如：化学工业中用作耐蚀、耐磨零件包括球阀、泵体、燃烧器、汽化器等。氮化网页2007年6月14日 PECVD 法氮化硅薄膜的研究吴大维范湘军郭怀喜张志宏李世宁武汉大学武汉抛光硅片经乙醇和丙酮超声清洗除去油污后, 用1∶1 稀释的氢氟酸浸泡二分钟。除去硅表面氧化层。再依次用1# 溶液(NH 4OH ∶H2O 2∶H2O = 1∶1∶8) 和2 # 溶液(HCl∶ PECVD 法氮化硅薄膜的研究

《炬丰科技半导体工艺》氮化硅钝化层的选择性湿法刻蚀溶液

网页2021年10月28日书籍：《炬丰科技半导体工艺》文章：氮化硅钝化层的选择性湿法刻蚀编号：JFKJ21902 作者：炬丰科技引言氮化硅钝化层的选择性去除在半导体器件的失效分析中非常重要。典型的应用有:光学显微镜和去除表面污染物的模具表面清洁、电子显微网页2023年1月16日氮化硅陶瓷耐磨弯头属于工业陶瓷的一种，氮化硅陶瓷的优异的性能对于现代技术经常遇到的高温、高速、强腐蚀介质的工作环境，具有特殊的使用价值比较突出的性能有：机械强度高，硬度接近于刚玉，有自润滑性，耐磨室温抗弯强度可以高达980MPa以耐高温氮化硅陶瓷耐磨弯头工作结构环境